院长信箱      书记信箱      系所导航      互选系统      下载中心      English     
微纳加工与器件制造平台

紫外光刻机(EVG 610)

发布时间：2025-03-04    作者：    来源：    浏览次数：    打印


仪器型号：EVG 610

生产厂家：EV Group

技术参数：

（1）基片尺寸：碎片(10mm×10mm-2英寸)、4英寸、6英寸;

（2）掩膜版尺寸：3英寸、5英寸、7英寸;

（3）分辨率：0.8μm（真空接触）；

（4）正面对准精度：±0.5μm; 背面对准精度：±2μm;

（5）曝光光源：LED光源，支持i线365nm及405+436nm波长。

主要功能及特色：

用于微米尺度光刻工艺，实现双面对准和接触式曝光功能，支持恒定光强和恒定功率模式曝光，支持硬接触、软接触、接近式和真空接触，底部对准采用不变焦对准方式。

预约链接：

http://equip.csu.edu.cn/lims/!equipments/equipment/index.3596.reserv

校内收费标准：

500元/小时。

联系人：

王老师 18692257791


 


上一篇：热压印及紫外压印一体纳米压印设备(GD-N-023)
下一篇：电子束蒸发仪(Kurt J Lesker PRO line PVD75)


分享到：0