仪器型号:PRO line PVD75
生产厂家:Kurt J Lesker company

技术参数:
(1)基片尺寸:6英寸;坩埚位置:6个,每个容量20cc;
(2)电子枪最高烘烤温度:150℃;
(3)极限真空压强:5*10-8Torr;
(4)薄膜均匀性:直径100nm硅片镀制100nm以上的薄膜,均匀性可达±3.5% ;
(5)薄膜重复性:同样镀膜工艺做三个样品,重复率偏差优于±3%。
主要功能及特色:
利用高能量电子束对蒸发物料进行电子轰击加热,使得蒸发材料达到沸点后挥发并沉积到样品表面,沉积成薄膜材料 ,可制备各种金属和非金属薄膜。
预约链接:
http://equip.csu.edu.cn/lims/!equipments/equipment/index.3600.reserv
校内收费标准:
400元/小时;耗材按实际使用收费。
联系人:
马老师 18692257791